La Espectroscopia Fotoelectrónica de rayos X (X ray Photoelectron Spectroscopy), es el resultado de irradiar una muestra con rayos X, posteriormente se generan los fotoelectrones a partir de la superficie del material. Una de las principales ventajas radica en que la energía de los fotoelectrones es dependiente de la configuración electrónica y química de los átomos presentes en la superficie. Esto permite obtener los llamados corrimientos químicos, que en un espectro XPS común se observan como picos a una determinada posición. El XPS es una técnica de análisis químico superficial virtualmente aplicable a todas aquellas muestras estables en condiciones de Ultra Alto Vacío (UAV), debido a que los rayos X incidentes normalmente no degradan las superficies de las muestras. Actualmente representa una de las más importantes técnicas de caracterización de superficies de materiales. Es esencial en la determinación de la composición química, tanto desde el punto de vista cualitativo como cuantitativo de la superficie de diferentes materiales, estos involucran cerámicos, microelectrónicos, semiconductores, plásticos y polímeros, catalizadores, repuestos, partes mecánicas, entre otros.